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| 日本放射光学会誌 |
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| Vol.21,No4/July.2008 |
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| 【表紙の説明】 X 線からX 線と極端紫外光に分かれるパラメトリック下方変換（2 次の非線形光学過程）の模式的なエネルギー準位。Compton 散乱も同じエネルギーのX 線を生成する。パラメトリック変換で生成されるX 線のロッキングカーブを測定すると，一見独立な2 つの過程が干渉し，その様子が極端紫外光のエネルギーに強く依存することが判明した。 |
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* 水および酸素が吸着した金属表面のX 線回折による構造解析
中村将志，星永宏，伊藤正時，坂田修身（p187）（7ページ、3,687k） |
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* SAGALS におけるタンパク質結晶の長波長X 線回折実験の試み 河本正秀，清水伸隆，馬場清喜，平田邦生，石地耕太朗，隅谷和嗣，本島浩之，岡島敏浩，熊坂崇，渡邉啓一，山本雅貴（p.194）（10ページ、4,908k） |
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* XAFS が拓く分子環境地球化学 高橋嘉夫（p.204）（9ページ、1,113k） |
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* X 線領域における非線形光学の新展開 玉作賢治，澤田桂，石川哲也（p.213）（8ページ、1,033k） |
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* ［検出器シリーズ(3)］エネルギーを測る—半導体検出器（高純度ゲルマニウム検出器シリコンドリフト検出器)— 伊藤真義，谷田肇（p.221）（9ページ、1,005k） |
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| * 新博士紹介 辻 成希 |
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