日本放射光学会誌 Journal of JSSRR |
Vol.31,No.1/Jan. 2018 |
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【表紙の説明】 極端紫外線(EUV)リソグラフィー用マスクの観察結果。コヒーレントEUV光によるタイコグラフィー法を利用した。サンプルは(a)十字パターン、(b)128 nmラインパターン、(c)ガラス基板上の凹凸による位相欠陥。強度分布だけでなく、半導体転写において大きな影響がある位相分布も同時に観察している。 Observation results of absorber patterns and phase defect on an extreme-ultraviolet (EUV) lithography mask by EUV ptychography. These images are shown in EUV intensity (left images), and EUV phase (right images). (a) the Cross pattern, (b) 128 nm L/S pattern, and (c) a programmed phase defects with 1 μm square size. |
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*見えない自然への憧れ・懼れと放射光科学 神谷信夫(p.1)(2ページ、910k) |
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*EUV リソグラフィー用マスクの評価技術の開発 原田哲男、渡邊健夫(p.3) *Development of EUV microscopes for EUV mask evaluation Tetsuo HARADA and Takeo WATANABE (7 pages, 5,686k) |
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*X線暗視野法利用医用画像の開発 安藤正海、島雄大介、砂口尚輝、湯浅哲也、森 健策、マクシメンコ アントン、市原 周、グプタ ラジーフ(p.10) *Development of medical imaging using X-ray dark-field imaging Masami ANDO, Daisuke SHIMAO, Naoki SUNAGUCHI, Tetsuya YUASA, Kensaku MORI, Anton MAKSIMENKO, Shu ICHIHARA and Rajiv GUPTA (12 pages, 8,367k) |
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*全反射結像ミラーを用いた色収差のないX線顕微鏡 松山智至(p.22) *Achromatic X-ray microscope based on total-reflection imaging mirrors Satoshi MATSUYAMA (10 pages, 6,749k) |
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*高繰り返しX線チョッパーの開発 大沢仁志、工藤統吾、木村 滋(p.32) *Development of high repetition rate X-ray chopper system Hitoshi OSAWA, Togo KUDO and Shigeru KIMURA (5 pages, 2,619k) |
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